在半導(dǎo)體芯片制造的精密殿堂中，某些組件雖不顯眼，卻直接決定著工藝的成敗與芯片的性能。碳化硅噴淋頭（亦稱為分配盤或勻氣盤）正是這樣一種關(guān)鍵部件。它靜置在工藝反應(yīng)腔的核心，卻掌控著反應(yīng)氣體均勻分布的命脈，是物理氣相沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD） 和刻蝕（Et